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晶體出現(xiàn)率分析儀

更新時(shí)間：2025-04-23

訪問量：2358

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

設(shè)備型號：ZMP960

簡要描述：

ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法，將目標(biāo)顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機(jī)輸出。

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產(chǎn)品介紹：

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ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離及顆粒邊界搜索算法，將目標(biāo)顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機(jī)輸出。

晶體出現(xiàn)率分析儀具有超大測量范圍及高分辨率，同時(shí)具有直觀、可視、準(zhǔn)確、操作簡單、測量參數(shù)全面等特點(diǎn)。能夠同時(shí)測量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。